近日，上海嘉森真空科技有限公司（以下简称“嘉森真空科技”）正式推出自主研发的PECVD（等离子体增强化学气相沉积）设备，标志着公司在真空镀膜核心装备领域实现重大突破，为我国半导体、光伏领域国产化替代注入新动能。

深耕真空技术领域近二十年的嘉森真空科技，是集研发、生产、销售、服务于一体的高新技术企业，依托多项专利及软件著作权，组建专业团队攻关PECVD技术，推出这款兼具性能与成本优势的高端设备。

该设备采用低温沉积技术（常温-400℃），可避免基底热损伤，通过创新腔室与气流设计，提升薄膜均匀性与致密度，综合能耗及维护成本较传统设备降低30%-40%，可广泛应用于半导体、光伏、显示技术等核心领域，还可提供非标定制服务。

嘉森真空科技董事长毛念新表示，该设备的推出是公司自主创新的重要成果，也是响应国产化替代战略的具体实践，进一步完善了产品矩阵，推动企业向核心装备研发转型升级。

此次推出的PECVD设备性能达行业先进水平，打破国外技术垄断，为下游企业提供高性价比国产选择。未来，嘉森真空科技将持续加大研发投入，深耕核心领域，助力高端装备国产化发展。

嘉森真空科技有限公司 2025年09月15日

关于嘉森真空科技：上海嘉森真空科技有限公司成立于2007年，是高新技术企业、专精特新中小企业，专注真空镀膜设备及相关产品，服务多领域，赢得全球客户认可，秉持创新理念助力产业升级。